エクストリームUV（Extreme Ultraviolet）は、電磁スペクトルの紫外線領域に位置する非常に短い波長を持つ光のことを指します。一般的な紫外線（UV）は、波長が10〜400ナノメートル（nm）の範囲にありますが、エクストリームUVはそのさらに短い波長領域を指します。具体的には、エクストリームUVは波長が約10〜124ナノメートルの範囲にあります。
エクストリームUVは、その特性からさまざまな分野で活用されています。特に、微細加工技術や半導体製造、リソグラフィなどの分野で重要な役割を果たしています。
例えば、半導体製造においては、エクストリームUVリソグラフィが注目されています。リソグラフィは、半導体の微細パターンを作成するために使用される技術であり、エクストリームUV光を用いることでより高い解像度と精度が実現されます。エクストリームUV光は、その短い波長により、微細なパターンを形成するための高い光学解像度を提供します。
また、エクストリームUVは宇宙観測の分野でも重要な役割を果たしています。大気中の吸収や散乱がほとんどないため、エクストリームUV光は宇宙空間での観測に適しています。特に、エクストリームUV観測は、銀河や星形成領域、活動的なブラックホールなど、高エネルギー現象の研究に貢献しています。
エクストリームUVは、その波長の特性から通常の光学素材では吸収されてしまうため、特殊な技術や素材が必要です。また、エクストリームUV光は強力であり、適切な安全対策が必要です。
エクストリームUVの特性と応用の幅広さから、光学、半導体、宇宙観測などの分野で重要な役割を果たしており、さらなる研究や技術の発展が期待されています。
